去離子水/超純水在電子工業(yè)主要是線路板、電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出，去離子/超純水水質(zhì)已成為影響線路板、電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一，水質(zhì)要求也越來越高。在電子元器件生產(chǎn)中，去離子水/超純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料，不同的電子元器件生產(chǎn)中純水的用途及對水質(zhì)的要求也不同。 　　

 

 

 

在晶體管、集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬（K、Na等）會使絕緣膜耐壓不良，重金屬（Au、Ag、Cu等）會使PN結(jié)耐壓降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）會使N型半導(dǎo)體特性惡化，Ⅴ族元素（P、As、Sb等）會使P型半導(dǎo)體特性惡化，水中細(xì)菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20-50%）會使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)镹型硅而導(dǎo)致器件性能變壞，水中的顆粒（包括細(xì)菌）如吸附在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。集成電路生產(chǎn)對純水水質(zhì)的要求見表1

 

 

 

 

表1   集成電路（DRAM）對純水水質(zhì)的要求

 

 

 

 

電子超純水設(shè)備是保證電子 產(chǎn) 品 質(zhì)量 安 全 促進(jìn)電子業(yè)健康運(yùn)行的依據(jù)，電子超純水設(shè)備適用集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片、半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工，純水一號的電子工業(yè)設(shè)備廣泛的用于在電子業(yè)中，而且在電子業(yè)中的地位更是蒸蒸日上成為業(yè)內(nèi)發(fā)展的主導(dǎo)者。

 

 

 

 

 

 

目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、，以區(qū)分不同水質(zhì)。半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質(zhì)的要求也越高

 

電子行業(yè)超純水中除了水分子(H20)外，幾乎沒有什么雜質(zhì)，更沒有細(xì)菌、病毒、含氯二惡英等有機(jī)物，當(dāng)然也沒有人體所需的礦物質(zhì)微量元素。超純水,是一般工藝很難達(dá)到的程度，如水的電阻率大于18MΩ*cm，接近于18.3MΩ*cm則稱為超純水。目前，超純水設(shè)備的方法通常采用反滲透，去離子或電去離子(EDI)等工藝。